▼商品のおすすめポイント▼ |
微粒子パウダーが肌の凹凸を埋め、毛穴・小ジワをカバーし、同時にスキンケアもできる化粧下地です。微粒子パウダーがお肌をフラットにすることで、ワントーン明るい印象となり、至近距離でもキレイと言わせるような陶器のようなお肌へと仕上げることができます。また、皮脂吸着パウダー(シリカ)を配合してますので、Tゾーンなどテカリが気になる部分の余分な皮脂を吸着し、お化粧崩れしにくく、さらっと感をキープしてメイクも長持ちします。さらに、5種類のうるおい(保湿)成分(ヒアルロン酸Na 、レモングラス葉/茎エキス、パッションフルーツエキス、プラセンタエキス、加水分解コラーゲン)を配合。うるおい成分が毛穴や凹凸に入り込み、角質層まで浸透してくれるので乾燥からお肌を守り、うるおいをキープ。エアコンや紫外線で乾燥しがちなお肌をやさしく守ります。 |
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▼商品詳細▼ |
【商品名】 DIXTOWAJ(ディストワジェイ) BASE COVER【毛穴隠し下地】 【区分】化粧下地 【内容量】25g 【使用方法】 パール一粒程度を手に取り、少しずつ薄く顔全体に伸ばしていきます。顔の中心から外側に向かって少しずつ量を調整しながら、毛穴や小ジワを埋めるように塗ってください。 【生産国】日本 【販売元(製造元)】アスター企画 【成分】 ジメチコン、(ジメチコン/ビニルジメチコン)クロスポリマー、ポリメタクリル酸メチル、(ビニルジメチコン/メチコンシルセスキオキサン)クロスポリマー、シクロペンタシロキサン、ジメチルシリル化シリカ、トリエチルヘキサノイン、トリメチルシロキシケイ酸、クダモノトケイソウ果実エキス、ヒアルロン酸Na、レモングラス葉/茎エキス、タチジャコウソウ花/葉エキス、プラセンタエキス、加水分解コラーゲン、トリエトキシカプリリルシラン、シリカ、ハイドロゲンジメチコン、メチコン、水、BG、テトラヘキシルデカン酸アスコルビル、フェノキシエタノール、酸化チタン、タルク、酸化鉄、水酸化Al 【使用上の注意】 【特記事項】 【注意事項】 |
ChouChou Ginza Japan |